• <li id="oscau"><acronym id="oscau"></acronym></li>
    <dd id="oscau"></dd><th id="oscau"></th>
    <progress id="oscau"><track id="oscau"></track></progress>

      產品詳情
      • 產品名稱:三靶向上磁控濺射鍍膜儀

      • 產品型號:CY-MSH325X-DCDCRF-SS
      • 產品廠商:成越科儀
      • 產品文檔:
      你添加了1件商品 查看購物車
      簡單介紹:
      三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
      詳情介紹:

      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備,具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。

      三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:

      項目

      明細

      產品型號

      CY-MSH325X-DCDCRF-SS

      供電電壓

      AC220V,50Hz

      整機功率

      6KW

      系統真空

      5×10-4Pa

      樣品臺

      外形尺寸

      φ150mm

      加熱溫度

      750℃

      控溫精度

      ±1

      可調轉速

      20rpm

      磁控靶槍

      靶材尺寸

      直徑Φ50.8mm,厚度3mm

      冷卻模式

      循環水冷

      水流大小

      不小于10L/Min

      靶槍數量

      3

      真空腔體

      腔體尺寸

      直徑φ325mm,高度600mm

      腔體材質

      SUU304不銹鋼

      觀察窗口

      直徑φ100mm

      開啟方式

      前面開啟

      氣體控制

      1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

      真空系統

      配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

      膜厚測量

      可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

      濺射電源

      直流電源功率500W*2,射頻電源功率300

      控制系統

      CYKY自研專業級控制系統

      真空計

      電阻規真空計

      設備尺寸

      1090mm×900mm×1250mm

      設備重量

      350kg



      豫公網安備 41019702002438號

      最近2018中文字幕视频免费看|初爱视频教程完整版免费观看|好湿好多水舌头伸进去视频|中国联通营业厅|日本免费一区二区三区视频观看