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      PECVD氣相沉積系統
      • 等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
      • 等離子體增強型化學氣相... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用...
      • CVD化學氣相沉積系統 CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
      • PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
      • 雙溫區CVD化學氣相沉... CVD(化學氣相沉積)氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜
      • 三溫區PECVD石墨烯... 三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學實驗上
      • 熱陰極直流等離子體化學... 熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
      • 卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
      • PECVD-R?旋轉等... 本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
      • PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
      • PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應...
      • 單溫區旋轉PECVD石... 單溫區旋轉PECVD,安裝有真空自動投料器,爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料,可以以額定的速率...
      • 卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
      • 等離子增強CVD系統 等離子增強CVD系統由等離子發生器,三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反...
      • 等離子增強型CVD系統 CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量...

      豫公網安備 41019702002438號

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